Vandenilio išskyrimo iš vandens garų būdas: patentas

Abstract

Išradimas skirtas vandenilio energetikos technologijoms ir konkrečiai, vandenilio gavybos iš vandens būdui. Šio išradimo būdas skiriasi tuo, kad vandens molekulių skaldymas vyksta plazminės joninės implantacijos būdu. Tai pasiekiama formuojant plazmą vandens garų ir inertinių dujų (Ar ar He) mišinyje prie 1-5 Pa slėgio, iš kurios, suteikiant membranai impulsinį neigiamą potencialą (500-1000 eV) plazmos potencialo atžvilgiu, ištraukiami, greitinami ir nukreipiami į membraną molekuliniai jonai, savo sudėtyje turintys vandenilio atomus. Molekuliniai jonai skyla membranos paviršiniame sluoksnyje, kurio storis neviršija 10 nm, į juos sudarančius atomus ir Iokalizuojasi gardelės tarpmazgiuose. Dėl skirtingų vandenilio ir deguonies atomų difuzijos koeficientų membranos medžiagoje vyksta jų erdvinis atskyrimas, deguonies atomai kaupiasi membranos paviršiuje, o vandenilio atomai juda išilgai visos membranos ir ją palieka kitoje jos pusėje, sudarydami vandenilio molekules.