LaNiO3 junginių sintezė zolis-gelis metodu bei jų rentgeno fotoelektroninių spektrų tyrimas

Abstract

Mano darbo tikslas buvo pagaminti LaNiO3 plonuosius sluoksnius panaudojant zolis-gelis technologiją bei ištirti jų cheminę sudėtį naudojant rentgeno fotoelektroninės spektroskopijos metodą. Darbe yra aprašytas zolis-gelis technologijos principas, kuriuo buvo vadovaujamasi gaminant ploną sluoksnį. Taip pat yra pateiktas ir glaustas rentgeno fotoelektroninės spektroskopijos metodo aprašas (RFS). Šio metodo pagalba yra tiriamas įvairių medžiagų paviršių cheminė sudėtis. Pirmame skyriuje aptarta: La2O3 ir NiO fizikinės savybės bei LaNiO3 sistema. Antrame skyriuje aprašytas plonų sluoksnių nusodinimo iš dujų fazės (plazmos) metodas – magnetroninis dulkinimas. Kaip alternatyva magnetroniniui dulkinimui, trečiame skyriuje yra pateikiamas zolis-gelis technologijos aprašas. Ketvirtame skyriuje aptariame rentgeno fotoelektroninių spektrų metodą, kuris buvo naudojamas tiriant medžiagų paviršiaus cheminę sudėti. Penktąsis skyrius buvo skirtas La-Ni-O sintezės bei rentgeno fotoelektroninių spektrų tyrimamo, naudojant spektrometrą XSAM 800 (Kratos Analytical, Didžioji Britanija), ypatumams ir bandinių gamybos metodikai aptarti. Paskutiniąjame – šeštajame skyriuje pateikti eksperimento rezultatai ir jo aptarimai. Darbo pabaigoje yra pateikiamos išvados, kurios galėtų būti naudingos, tobulinant LaNiO3-x plonų sluoksnių gamybos technologiją.

My work aim was to make LaNiO3 thin film using sol-gel technology and to investigate its chemical composition using Rentgen photoelectron spectroskopy method. In work is described sol-gel technology, which have been followed in produsing a thin film. Also, there is brief description of Rentgen photoelectron spectroscopy method (XPS – X-Ray photoelectron spectroscopy). Aid of this method is studied in a variety of materials surface chemical composition. In the first chapter: physical properties of La2O3 and NiO; LaNiO3 system. In chaper two is decribed the method of thin film deposition from the gas phase (plasma) – magnetron sputtering. In chapter three was described sol-gel technology which is as an alternative for magnetron sputtering. Chapter four – XPS method which were used in order to investigate chemical composition of the surface. Fifth chapeter was for a pecularity and sample production methodology of La-Ni-O synthesis and XPS (using the XSAM 800 (Kratos Analytical, Great Britain) spectrometer) discuss. In the last chapter – six – was presented results of experiment and its discusion. There are gived conclusions the at the end of the work, which could be useful for LaNiO3-x thin film producing technology improvement.